真空炉
在Thermic Edge,我们为自己处于真空炉行业的最前沿而感到自豪。我们提供完整的服务,我们定制的多功能范围为您提供任何应用所需的工具。
石墨实验室真空炉带有石墨坩埚或硅片样品热区,用于热加工、热处理、退火和真空烧结。
Thermic Edge实验室真空炉提供一系列的石墨热区,以适应各种用途。我们的标准中型真空炉的坩埚尺寸为Ø102 x 51mm,最高温度为2100˚c。我们还提供另一种更深的中型热区尺寸,即Ø60.5 x 75mm,更大的尺寸为Ø150 x 75mm,超大的热区尺寸为Ø180 x 140mm。我们还提供适用于Ø 4"、Ø 6 "和Ø 8 "样品尺寸的扁平晶圆热区。
圆柱形石墨元件效率极高,可以实现快速升温,非常稳定,使用双热区可以提高温度均匀性,偏差< +/- 1%。
2000°c中型实验室真空炉,带石墨热区坩埚炉,5kW直流电源。
石墨热区 - Ø60.5 x 75mm 或 Ø102mm x 51mm
2000°c大型实验室真空炉,带石墨热区坩埚炉,15kW直流电源。
石墨热区 - Ø150 x 75mm
2000°c超大型实验室真空炉,带石墨热区坩埚炉,20kW直流电源。
石墨热区 - Ø180 x 140mm
Ø 4 "石墨热区,5kW DC PSU
Ø 6 "石墨热区,10kW DC PSU
Ø 8" 石墨热区,15kW DC PSU
对于晶圆样品测试,我们的实验室真空炉使用封闭在石墨热区中的CCC元件来加热单个大直径的样品和存放在受热板中的较小样品。
硅片取样炉的取样尺寸从4英寸到8英寸,8英寸的取样炉有双区选项。
3000˚c实验室炉使用了与标准炉相同的占地面积,但加入了一些变化。
Thermic Edge的实验室真空炉系列提供了一个用户友好的界面,通过现代的触摸屏HMI显示,可以控制所有炉子的抽气、气体处理和排气功能,促进其易用性。有多个屏幕用于操作、联锁显示和模仿阀门状态。
人机界面允许用户控制自动降压程序,该程序旨在清除炉膛内的残余氧气,并在内部增加热区的使用寿命,避免发生氧化的可能性。
两个独立的气体输入也可以通过安装在手臂上的人机界面进行控制,并通过针阀手动调节其流量,以满足用户的要求。抽气速度也可以通过安装在真空炉前面的真空速动阀手动调节,从而实现对炉膛压力和气体流量的手动控制。
温度和数据记录是通过欧热Nanodac PID温度控制器/数据记录器控制的,它可以连接到远程PC进行数据分析。提供的软件允许对多步骤的过程循环进行编程,允许简单的重复测试和对程序的简单调整。
完全水冷的真空室和电源馈入装置使真空室的外部保持在环境温度,防止过热,允许长时间的操作。
所有的实验室真空炉都需要有电源、冷冻水供应和排放、用于通风的氩气、工艺气体供应和排气管。